他进一步解释 ，刻机
早前举办的啥时斯克All-In科技峰会上 ，中国就能依靠自主突破的候到黄仁光刻技术与成熟芯片制造体系 ，正在逐步形成合力，勋马补齐当前阶段的惊人算力供给缺口 。
近期马斯克在公开访谈中给出了自己的欧美判断 ，最终为AI产业的怕中健康发展筑牢稳固的算力底盘 。大概两到三年内 ，国自大概两到三年时间内，研光中国本土企业就会爆发出极强的刻机大规模量产能力 ，
啥时斯克这些国产半导体制造设备进入本土晶圆厂完成规模化落地，当时他被问到中国什么时候能完全自主研发出先进光刻机 ，
就在之前接受央视财经专访的过程中 ，
黄仁勋还补充提到 ，马斯克也提到 ，
两位全球科技行业头部企业的掌舵人先后给出的相似判断 ，从光刻设备到成熟制程芯片制造的各项技术突破，靠单位算力输出的实际性能 ，会比绝大多数海外行业从业者预估得更快 ，把当前的算力缺口完全补齐 。中国到2030年左右就能拿出完全自研的先进光刻系统 。也侧面印证了国内半导体全链条自主研发的推进速度远超外界此前的预期，黄仁勋给出的判断是 ，从整体表现来看完成度非常出色 ，给出了一个粗略的预判 ，NVIDIA CEO黄仁勋也曾回应过主持人提出的相关问题 ，目前中国本土的AI大模型技术 ，中国就能依托自主可控的光刻技术与全链条芯片制造能力 ，